《表1 镀层最薄厚度为40μm及150μm时试片厚度对比》

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《脉冲镀铬镀层性能的研究》

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对试片分别进行脉冲电镀和直流电镀，设定镀层厚度的工艺要求为镀层最薄处厚度分别为40μm和150μm。对两种工艺生产出的试片的边缘及中心位置进行厚度测量，结果如表1所示。可以看出，试片最薄镀层厚度要求为40μm前提条件下，直流电镀铬工艺生产的试样厚度差为45.25μm，而脉冲电镀铬可将镀层的厚度差降至23μm。同样地，最薄镀层厚度要求为150μm时，脉冲电镀铬可将镀层的厚度差由直流电镀的69μm降至38.5μm。其原因在于铬镀液分散能力差，而且电镀液有自由空间存在，以及阳极长短关系，使电力线在阴阳极之间不能均匀分布，导致阴极尖端及四周电流比中间大，造成零件尖端和四周边缘区域镀层厚度过厚，这种现象在镀铬过程中是不可避免的，但脉冲电镀铬可利用脉冲电流的张弛作用来增加阴极的活化极化和降低阴极的浓差极化，使镀层的均匀性有了很好的提升。