《表4 3种镀铜体系所得镀层 (2μm) 的孔隙率测试结果》
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由表4可知，在相同厚度下，不同镀铜工艺所得镀层的孔隙率由低到高的排序为氰化镀铜、无氰光亮碱铜和一般无氰碱铜，无氰光亮碱铜和氰化镀铜的孔隙率要明显低于一般无氰碱铜。
| 图表编号 | XD0055342200 严禁用于非法目的 |
|---|---|
| 绘制时间 | 2019.07.15 |
| 作者 | 徐金来 |
| 绘制单位 | 广州鸿葳科技股份有限公司 |
| 更多格式 | 高清、无水印（增值服务） |
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