《表1 不同类型等离子清洗特性》

《表1 不同类型等离子清洗特性》   提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
本系列图表出处文件名:随高清版一同展现
《不同等离子清洗在半导体封装中的应用研究》


  1. 获取 高清版本忘记账户?点击这里登录
  1. 下载图表忘记账户?点击这里登录

由于等离子体组成较复杂,等离子体与被清洗的物体表面接触时会发生各种复杂的反应,主要可分为两大类:一种是等离子体与物体表面的撞击物理反应,另一种是等离子体与物体表面的各种化学反应。不同类型等离子清洗主要反应不同,与被激发的气体组成有很大关系,表1是主要的不同类型等离子清洗时使用的气体、激发频率和清洗时的主要反应。