《表2 制得的开关主要参数》

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《基于微电铸工艺的镍微型惯性开关的研制》

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在MEMS开关制作过程中，会经历曝光显影、胶膜溶胀与去胶释放等过程，这都会导致结构的实际线宽小于设计线宽。因此在设计结构掩模版时，采用“线宽补偿”的方法适当放大了实体结构尺寸，以保证释放后的开关尺寸与设计尺寸大小基本一致；“线宽补偿”的尺寸根据经验而定，将实体尺寸放大5μm，有效减小实际制得的开关尺寸偏差。最终制作整体尺寸为3850μm×3850μm×240μm、最小线宽尺寸为40μm的开关，将测量后的主要尺寸范围列于表2，并计算实际尺寸对应的加速度阈值范围，用于验证制作出的开关是否满足设计要求。