《表2 微弧氧化膜的EDS分析Tab.2 EDS analysis of MAO coatings》

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《固溶处理对β钛合金微弧氧化膜生长过程的影响》

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对微弧氧化膜表面进行EDS面扫描，结果如表2所示。氧化膜的主要元素组成为O、Si、Ti，其中Ti为基体材料，Si元素来自于电解液，而O元素的来源除了电解液中的SiO32-外，还有电离所产生的O2。对比T1热处理后经不同氧化时间所获氧化膜的结果可知，微弧氧化的最初阶段（30 s及60 s时），基体中的Al元素和V元素还可以检测到。随着氧化的进行，氧化时间超过90 s后，基体的其他合金元素均未在膜层中发现。而经T2热处理后，经90 s微弧氧化处理，氧化膜表面仍能检测到Al和V元素，120 s时消失。而铸态合金表面微弧氧化120 s后，膜层的EDS分析中依然有Al和V元素存在。微弧氧化膜组成中，来自基体的合金元素消失，表明膜层开始变得致密，这说明采用T1热处理工艺较T2热处理工艺更快地获得致密的氧化膜。致密的膜层导致击穿变得困难，膜层厚度降低，这与表面形貌和厚度结果相一致。