《表1 基于TVD的异或门电路能耗独立性能对比》
表1给出了基于TVD的异或门电路与其他电路结构的异或门能耗独立性能对比.为使仿真分析结果更接近芯片实际的工作环境,需要考虑工艺偏差、电压波动及温度变化对电路性能的影响测试5种典型PVT(Process,Voltage,Temperature)组合条件,仿真环境如下:(1)TYP(Typical):TT工艺角,工作电压与标准电压一致,设置为1.2 V,环境温度25℃;(2)BCF(Best Case Fast):FF工艺角工作电压比标准电压高10%,环境温度-40℃;(3)WCS(Worst Case Slow):SS工艺角,工作电压比标准电压低10%,环境温度125℃;(4)TL(Typica Leakage):TT工艺角,标准电压,环境温度125℃(5)ML(Maximal Leakage):FF工艺角,工作电压比标准电压高10%,环境温度125℃.从表1中可知在不同PVT下,本文所提出的基于TVD的异或逻辑混淆电路的归一化能量偏差均低于0.107 2%,归一化标准差均低于0.045 3%,相比静态(ST)电路仿真得到的结果,在归一化能量偏差、归一化标准差分别降低了47.07%和21.79%,具有显著的抗DPA攻击性能.
图表编号 | XD0038127500 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.05.10 |
作者 | 李立威、汪鹏君、张跃军 |
绘制单位 | 宁波大学电路与系统研究所、宁波大学电路与系统研究所、温州大学数理与电子信息工程学院、宁波大学电路与系统研究所、密码科学技术国家重点实验室 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |