《表1 仪器工作条件Tab.1 Working conditions of the instrument》
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《熔融制样-X射线荧光光谱法测定工业硅中总硅、二氧化硅和其他杂质组分》
分析谱线为Kα，测定时间为20s，脉冲高度分布为40～80，其余仪器工作条件见表1。
| 图表编号 | XD0037372500 严禁用于非法目的 |
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| 绘制时间 | 2019.02.18 |
| 作者 | 徐建平、张兆雄 |
| 绘制单位 | 武汉科技大学省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室、武汉钢铁有限公司质检中心 |
| 更多格式 | 高清、无水印（增值服务） |
