《表5 氧化增重结果Tab.5 Results of increase in mass due to oxidation》

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《熔融制样-X射线荧光光谱法测定工业硅中总硅、二氧化硅和其他杂质组分》

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按试验方法对同样5个工业硅样品进行熔融制样，根据1.3.2节空白试验记录的mb1和mb2可计算出熔剂熔融后的质量mr=mb2-mb1=105.547 2-99.186 2=6.361 0（g）。根据1.3.4节记录的m2和m3可计算出样品加熔剂熔融后的质量ms=m3-m2。样品氧化增重wd=ms-mr-0.200 0。本方法计算得到的样品氧化增重结果与根据湿法分析结果计算出的样品氧化增重结果wc见表5。