《表3 多腔微纳阵列扫描结果》
通过图9和表3中的数据可以看到缺陷模的调控范围只有450~680nm,小于DBR衬底的禁带范围,即禁带内的有些区域无法产生缺陷模,这是由于缺陷模在禁带中周期出现导致的。从图9可以看到,当SU-8的厚度为100nm且超表面的边长超过140nm时,图像的底部(400nm)开始出现另一个缺陷模,而且该缺陷模也会随着SU-8厚度和超表面边长的增加而发生红移,导致在一个禁带内产生两个缺陷模,由于缺陷模的周期性出现是不可避免的,而双缺陷模会影响光线采集,因此SU-8和超表面对缺陷模中心波长的共同调控作用是有限的,即单衬底、多腔微纳能在窄波段内进行光电采集,不能覆盖全可见光波段。
图表编号 | XD0032973000 严禁用于非法目的 |
---|---|
绘制时间 | 2019.01.01 |
作者 | 任尚书、周树道、王敏 |
绘制单位 | 解放军理工大学气象海洋学院、解放军理工大学气象海洋学院、南京信息工程大学气象灾害预警与评估协同创新中心、解放军理工大学气象海洋学院、南京信息工程大学气象灾害预警与评估协同创新中心 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |