《表1 XPS各元素的原子百分比》
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《N、B共掺杂MXene复合材料的制备及其电化学性能研究》
图3是MXene和N,B-MXene的XPS表征。与MXene相比,热处理后的N,B-MXene的XPS图谱中,在约194 eV和400 eV处出现了两个峰,对应于B1s和N1s的特征峰,证明N、B被掺杂进MXene中。从XPS元素相对含量分析(表1)可知,N,B-MXene-300℃中N,B的含量最高,达到8.99%和7.69%,高于N,B-MXene-200℃和N,B-MXene-400℃中的掺杂量。这是因为,离子液体在300℃开始分解,分解产生的NH3和BH3等气体,掺杂进MXene中,而且温度升高,掺杂量升高。但是在400℃热处理时,高温导致MXene的发生了分解,所以含量略有降低。N 1s的拟合图显示,N,B-MXene-200℃,300℃在401.7 eV和399.8 eV有两个吸收峰,对应于N-Q和吡啶N的特征峰[23-25]。N,B-MXene-400℃除了N-Q和吡啶N的特征峰外,在388 eV处出现了吡咯N的特征峰。氮掺杂MXene表面边缘上的吡啶(N-5)和吡咯/吡啶酮(N-6)基团具有赝电容效应[26-27],另外四元的N(N-Q)[28]增加了其电导性。
图表编号 | XD0029151500 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.01.01 |
作者 | 孙贺雷、李云飞、易荣华、王若冲、周爱军、孙义民 |
绘制单位 | 武汉工程大学材料科学与工程学院等离子体化学与新材料湖北省重点实验室、武汉工程大学材料科学与工程学院等离子体化学与新材料湖北省重点实验室、武汉工程大学材料科学与工程学院等离子体化学与新材料湖北省重点实验室、武汉工程大学材料科学与工程学院等离子体化学与新材料湖北省重点实验室、武汉工程大学材料科学与工程学院等离子体化学与新材料湖北省重点实验室、武汉工程大学材料科学与工程学院等离子体化学与新材料湖北省重点实验室 |
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