《表2 常用的表面活性剂与铂纳米晶形貌之间的关系》

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《形貌可控的铂类贵金属氧还原电催化剂研究进展》

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根据Wulff[26]理论可知，常见低指数晶面的晶面能顺序为γ{111}<γ{100}<γ{110}。在无添加剂的情况下，晶体趋向于形成由{111}面围成的正八面体或者是四面体。由于物体形状越接近球体，表面积与体积之比越小，实际形成的是由{111}与{100}面共同覆盖的表面能更低的截角八面体[27]，如图2虚线框所示。图3描述了不同条件下铂晶体的生长路径，在单晶铂生长过程中，Xiong等[28]将{100}与{111}面的生长速率之比定义为R，并提出R值的大小将直接影响最终晶体的形貌（立方体R=0.58、立方八面体R=0.87以及八面体R=1.73）。表面活性剂[29-32]分子或其他添加剂可通过选择性优先吸附于某个晶面或者刻蚀某个晶面来达到调控晶面生长速率的目的[33]。图4描述了虚构的二维晶体形貌的演变过程，该过程表明，晶体朝某一个方向的生长速度越快，该方向的晶面消失得越快，反之该方向上的晶面就会保留。表2列举了常用的表面活性剂与其对应产物的形貌。目前常用的表面活性剂有聚乙烯基吡咯烷酮（PVP）、十六烷基三甲基溴化铵（CTAB）、十六烷基三甲基氯化铵（CTAC）以及柠檬酸。