《表1 AEO9与AES参数对比》
本实验清洗的晶片采用2英寸(1英寸=2.54 cm)蓝宝石抛光片。清洗液中碱和酸采用分析纯氢氧化钾(KOH)和分析纯硫酸(H2SO4),非离子表面活性剂为质量分数99%的AEO9,阴离子表面活性剂为质量分数70%的AES,AES与AEO9参数如表1所示(其中pH值是在体积分数为1%的溶液中测得)。去离子水(DI水)的电阻率为18 MΩ·cm。使用的抛光液为硅溶胶型抛光液(SiO2的质量分数为20%,SiO2颗粒平均粒径为100 nm)。
图表编号 | XD0028231500 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.02.15 |
作者 | 韦嘉辉、周海、高晗、梁志强 |
绘制单位 | 江苏大学机械工程学院、盐城工学院机械工程学院、盐城工学院机械工程学院、盐城工学院机械工程学院、北京理工大学机械工程学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |