《表2 改进后数据对比：推进氧化制程对芯片参数均匀性的影响与改善》
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改进与验证:推进氧化过程增加阻散流板，在石英舟两端各放3～5个同样大小假片；气路系统技术改造，质量流量计替代手旋浮子流量计，手动开关改为自动化微控。改进前后数据对比结果见表2
| 图表编号 | XD0026471400 严禁用于非法目的 |
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| 绘制时间 | 2018.06.15 |
| 作者 | 周继瑞、张朔、许宗瑞、李素华 |
| 绘制单位 | 河南芯睿电子科技有限公司、河南芯睿电子科技有限公司、河南芯睿电子科技有限公司、河南芯睿电子科技有限公司 |
| 更多格式 | 高清、无水印（增值服务） |
