《表3 铬的水合氧化物的溶解时间ta和金属铬层溶解时间 (tb-ta) 及铬量Tab.3 The dissolution time of chromium oxide (ta) , chromium

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《间歇电沉积粒状铬镀层的过程及其性能》

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根据E-t曲线统计了连续电沉积与间歇电沉积所得铬镀层表层铬的水合氧化物的溶解时间ta和内层金属铬溶解时间（tb-ta），并根据法拉第定律计算对应的铬量，结果见表3.从表中可知，两种电镀方式所得铬镀层表层铬的水合氧化物的铬量差别不大，但内层金属铬量相差超过50 mg/m2.两种电沉积采用的电流密度和电镀总时间相同，而含铬量却相差如此之大，很有可能是电流效率不同.连续电沉积基体是铁，间歇电沉积的第2次电沉积基体是第1次电沉积生成的铬的水合氧化物，沉积基体不同，电流效率自然也不同，所以才导致了内层金属铬量的不同[15].