《表2 不同薄膜样品的光学常数》

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《KH570液/气相改性对SiO_2薄膜耐潮湿性能的影响》

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表2为不同薄膜样品的折射率和厚度，由Film Wizard膜系设计软件对薄膜的透射光谱和反射光谱进行拟合计算所得。如表2所示，气相修饰后的样品b-KV的折射率为1.18，与未改性薄膜样品a-BSi O2的折射率1.17相近，而通过液相修饰法制备的薄膜折射率为1.20。结合薄膜的表面结构SEM图，经两种修饰手段改性的薄膜结构都变得较为致密，折射率的变化则说明，经KH570液相修饰法制备的薄膜更加致密，折射率提高明显。另外，a-BSi O2和c-KL是同一批次使用同一提拉速度（5 inch/min）制备的薄膜样品，但是厚度差别较大，分别为204 nm和138 nm，表明标准溶胶和改性溶胶的粘度状态有较大的差别。由于未改性溶胶内部Si O2生长团聚迅速，胶体粘度较大，所镀制的薄膜样品a-BSi O2厚度较大。而经过液相修饰的溶胶由于氧化硅颗粒被有机硅烷KH570携带的疏水基团包裹，有效地阻止了颗粒的进一步长大及团簇并延缓了溶胶的生长，因此溶胶S-0.2的粘度较小，同等条件下镀制出的薄膜样品c-KL较薄。