《表4 划痕试验参数Tab.4 Scratch test parameters》
采用美国Hysitron公司生产的TI950纳米机械性能测试系统对单晶Si C晶片进行纳米压痕试验,试验参数如表4所示。通过二维电容传感器可测出刻划过程中的横向力、正向位移、正向力,横向位移数据则由带动工作台移动的压电陶瓷提供。电容传感器通过闭环系统保证法向力的匀速加载。划痕长度为250μm,划痕速度为8μm/s,探针半径为200 nm.仿真获得的切削力为800 n N,划痕力传感器分辨率为20μN,划痕过程切削力如图5所示。由图5可看出,切削力随刀具移动而增加,同仿真力趋势一致。
图表编号 | XD002313700 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.08.01 |
作者 | 王超、李淑娟、柴鹏、严俊超、李言 |
绘制单位 | 西安理工大学机械与精密仪器工程学院、西安理工大学机械与精密仪器工程学院、西安理工大学机械与精密仪器工程学院、西安理工大学机械与精密仪器工程学院、西安理工大学机械与精密仪器工程学院 |
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