《表3 DMA-TFC膜的X射线光电子能谱原子组成和不同化学态N的相对含量》
图2显示了几种TFC膜的N1s XPS光谱中酰胺含量的分布。PIP与TMC反应生成的叔胺位于399.7 e V,而DMA和TMC反应以及过量PIP中的仲酰胺位于401.4 e V[33]。通过图2仲酰胺和叔酰胺的面积比计算出每个聚酰胺膜的N 1s的相对含量组成,并列于表3。从表3得出,随着DMA量的增加,界面聚合层中仲酰胺的含量逐渐增加至稳定水平,DMA参与了界面聚合形成选择层的过程,并且在水相中添加DMA降低了交联度[34],形成较为疏松的选择层,有助于提高复合纳滤膜通量。
图表编号 | XD00193584700 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2021.01.01 |
作者 | 刘宁、褚昌辉、王乾、孙世鹏 |
绘制单位 | 南京工业大学化工学院材料化学工程国家重点实验室、南京工业大学化工学院材料化学工程国家重点实验室、南京工业大学化工学院材料化学工程国家重点实验室、南京工业大学化工学院材料化学工程国家重点实验室 |
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