《表1 不同单位使用的前驱液成分》

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《化学溶液法涂层导体金属基带表面优化研究进展》

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SDP工艺的前提是制备均匀、稳定透明澄清的前驱溶液，以获得光滑、致密、连续的氧化膜。为利于溶剂去除过程通过物理交联形成稳定的凝胶体系[13]，前驱体可以选对水解不敏感的羧酸盐、硝酸盐或乙酰丙酮盐为金属离子的来源。溶剂可选醇类和有机酸等，这类溶剂易于溶解溶质、无毒性，对金属衬底的浸润性较好，易于调控前驱液的粘度，以便实现非晶氧化物薄膜的厚度可控。同时，在溶液中还应加入一定量的螯合剂，以螯合金属离子，提高溶液的稳定性。表1总结了主流实验室合成的一些前驱溶液的组分。