《表3 光阻-2不同尺寸的像素仿真结果》

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《高深宽比光阻层对1.0μm像素性能影响研究》

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为进一步优化像素的性能，我们基于光阻-2做了进一步的注入工艺优化。同时，由于像素尺寸较小且光刻胶非常厚，工艺加工过程中不可避免会带来光刻尺寸的偏移和形貌的波动，这些都会对像素性能造成较大影响，因此，考虑到工艺加工的精度以及波动，我们验证了光阻尺寸波动对像素性能的影响，仿真模型和电势图如图4所示，图4(a）标准尺寸、图4(b）尺寸-7%、图4(c）尺寸+7%。同时仿真得到的像素电性参数如表3所示。