《表2 具有不同光隔离的BSI结构》
实验方案如表2,我们设计了一组不同的挡墙结构方案,对每种方案中光损耗来源和像素的光学性能进行了对比分析。在该方案中,我们采用0.8μm的像素尺寸,挡墙结构的线宽为0.09μm,具体方案如下。
图表编号 | XD00193181100 严禁用于非法目的 |
---|---|
绘制时间 | 2020.11.20 |
作者 | 戚德奎 |
绘制单位 | 思特威(上海)电子科技有限公司 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |
实验方案如表2,我们设计了一组不同的挡墙结构方案,对每种方案中光损耗来源和像素的光学性能进行了对比分析。在该方案中,我们采用0.8μm的像素尺寸,挡墙结构的线宽为0.09μm,具体方案如下。
图表编号 | XD00193181100 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.11.20 |
作者 | 戚德奎 |
绘制单位 | 思特威(上海)电子科技有限公司 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |