《表3 MOEMS扫描光栅微镜机械扫描角测试结果》
为了研究磁场分布对电磁式MOEMS扫描光栅微镜机械扫描角度的影响,设计制造2个尺寸相同但谐振频率和驱动线圈电阻不同的MOEMS扫描光栅微镜芯片A1和A2,并分别结合不同永磁铁做性能测试。首先,将两个芯片分别安装到固定有永磁铁N38的封装体中,然后不断改变驱动信号的幅值和频率,当投射到PSD的光线长度达到最大时,记录由PSD输出的角度信号值,通过计算即可得出对应的机械扫描角度,该角度即为MOEMS扫描光栅微镜的最大机械扫描半角。再分别将上述两个芯片A1和A2安装到固定有永磁铁N52的封装体中,进行同样的测试并计算对应的最大机械扫描半角。测试数据如表3所示,相比磁性较弱的永磁铁N38,芯片A1在永磁铁N52的作用下驱动电压降低了6.6%,最大机械扫描半角增大了20.2%;同样,芯片A2的驱动电压相对应地降低了8.6%,最大机械扫描半角增大了17.4%。
图表编号 | XD00192910700 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.12.18 |
作者 | 陈亮、顾雯雯、温泉、李东玲 |
绘制单位 | 西南大学工程技术学院、西南大学工程技术学院、重庆大学新型微纳器件与系统技术国防重点学科实验室、重庆大学新型微纳器件与系统技术国防重点学科实验室 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |