《表2 各试样粗糙度值和薄膜密度值》
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薄膜与基底的表面粗糙度和光学常数差值对试样的反射性能具有明显的影响，粗糙度值增大和光学常数差值减小均会导致反射率下降[4，23]。表2为表面硅改性碳化硅陶瓷基底和50 nm厚碳化硼薄膜的表面粗糙度均方根值以及碳化硼薄膜的密度值。图4是以单晶硅为基底的试样截面的SEM图片，可以看出各试样薄膜光滑致密。假设各试样基底和薄膜的光学常数分别相等，仅粗糙度值不同，入射光波长为5nm时，其反射率计算曲线如图5a所示，各试样的反射率差别较大；入射光波长为31 nm时，其反射率计算曲线如图5b所示，各试样的反射率无明显差别。计算结果表明，入射光波长较小时，表面粗糙度对反射率影响明显且反射率随入射光角度变化而振荡；表面粗糙度值远小于入射光波长时，其对反射率的影响较小，可以忽略。图5c为入射角φ1为60°时各试样在5～45 nm波段的反射率测试曲线，试样4的反射性能最优，试样2和试样3的反射性能相当，试样5的反射性能最差。薄膜与基底间的光学常数差值与其电子密度差值呈正相关，材料电子密度的计算公式为:
| 图表编号 | XD00190637300 严禁用于非法目的 |
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| 绘制时间 | 2021.01.25 |
| 作者 | 郦其乐、杨勇、魏玉全、刘盟、周洪军、霍同林、黄政仁 |
| 绘制单位 | 中国科学院上海硅酸盐研究所、中国科学院大学、中国科学院上海硅酸盐研究所、中国科学院上海硅酸盐研究所、中国科学院大学、中国科学院上海硅酸盐研究所、中国科学技术大学国家同步辐射实验室、中国科学技术大学国家同步辐射实验室、中国科学院上海硅酸盐研究所 |
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