《表7 知识溢出、知识产权保护对不同技术位置企业创新投入的影响》
注:*、**、***分别代表在10%、5%、1%的水平上显著;括号中的数值为标准误。
这里依旧采用Tobit面板回归检验不同技术位置上知识溢出、知识产权保护对企业创新投入数量的影响。表7为回归结果,从表中可以发现与表6的结论保持一致,即远离技术前沿企业的创新活动受知识溢出影响大,受知识产权保护影响小;而靠近技术前沿企业的创新投入受知识溢出影响小,受知识产权保护影响大。
图表编号 | XD00188451000 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.11.15 |
作者 | 卢现祥、笪琼瑶 |
绘制单位 | 中南财经政法大学经济学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |