《表1 非凹槽和凹槽型SBD测试结果对比Tab.1 Test results comparison of non-recessed and recessed SBDs》
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《AlGaN/GaN横向肖特基势垒二极管的仿真与制作》
完成流片后,对制作好的两种SBD进行了直流I-V测试和射频S参数测试。根据直流I-V非线性区拟合曲线可得理想因子n、反向饱和电流Is及击穿电压VBV。通过射频S参数测试及等效电路和去嵌网络提取器件的串联电阻和结电容。图8为非凹槽和全凹槽Al Ga N/Ga N SBD的I-V对比曲线。图9(a)为射频测试S参数和等效电路图,图9(b)为C-V对比曲线图,图中:Cp为寄生电容;Cj为结电容;Rs为串联电阻;Rj为结电阻。表1为根据I-V和C-V曲线提取的参数对比,表中:Von为开启电压;FOM为品质因子;Cratio为器件电容非线性特征参数,Cratio=Cmax/Cmin,其中Cmax和Cmin分别为电容的最大值和最小值。
图表编号 | XD00188429000 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.05.03 |
作者 | 李倩、安宁、曾建平、唐海林、李志强、石向阳、谭为 |
绘制单位 | 中国工程物理研究院微系统与太赫兹研究中心、中国工程物理研究院电子工程研究所、中国工程物理研究院微系统与太赫兹研究中心、中国工程物理研究院电子工程研究所、中国工程物理研究院微系统与太赫兹研究中心、中国工程物理研究院电子工程研究所、中国工程物理研究院微系统与太赫兹研究中心、中国工程物理研究院电子工程研究所、中国工程物理研究院微系统与太赫兹研究中心、中国工程物理研究院电子工程研究所、中国工程物理研究院微系统与太赫兹研究中心、中国工程物理研究院电子工程研究所、中国工程物理研究院微系统与太赫兹研究中心、中国工程物理 |
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