《表2 氧化和还原溶液的配方Tab.2 Formulation of oxidation and reduction solutions》
化学去污(清洗)工艺分别为碱性高锰酸钾氧化(AP)-抗坏血酸还原(A)、酸性高锰酸钾氧化(NP)-抗坏血酸还原(A)、酸性高锰酸钾氧化(NP)-抗坏血酸和络合剂乙二胺四乙酸还原(AE)、酸性高锰酸钾氧化(AP)-草酸还原(O)。表2所示是化学去污工艺中所用氧化和还原清洗溶液的配方。由表2可见:在4种去污工艺中,AP-A去污工艺是碱性氧化条件、其余则都是酸性氧化条件。
图表编号 | XD0018670200 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.11.15 |
作者 | 宋利君、李新民、刘斌、朱海建 |
绘制单位 | 苏州热工研究院有限公司、苏州热工研究院有限公司、苏州热工研究院有限公司、苏州热工研究院有限公司 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |