《表6 纳米材料暴露对人体基因甲基化的影响》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《纳米材料表观遗传学效应的研究进展》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

-：文中无描述；ITO：氧化铟锡；DNMT:DNA甲基化转移酶基因.

纳米材料的暴露可使人体血液中全基因组甲基化及特异基因甲基化水平发生改变，且存在剂量依赖性（表6）。LIOU等[56]对暴露于纳米材料工人血液中的基因组甲基化进行了评估，包括TiO2-NP，SiO2-NP和氧化铟锡（indium tin oxide，ITO）暴露工人，在未调整年龄性别等混杂因素前，纳米材料暴露组的基因组整体甲基化水平均降低，根据纳米材料分层比较后，结果与未分层相同，调整混杂后，仅ITO组甲基化水平降低。GHOSH等[57]分别对MWCNT工厂中未暴露及暴露于低（1μg·m-3）、中（7μg·m-3）、高（45μg·m-3)3种浓度梯度MWCNT工作环境中的工人进行血样采集检测。结果显示，暴露组的基因组整体甲基化水平与对照组相比无明显差异，但暴露组存在特异基因甲基化水平的改变，且不同暴露浓度组中基因CpG甲基化位点也不同。低剂量组的DNMT1-CpG1，CpG5，HDAC4-CpG7，SKI原癌基因（SKI proto-oncogene，SKI)-CpG3和CpG5位点，中剂量组的DNMT1-CpG1，CpG2，CpG5，HDAC4-Cp G7，SKI-Cp G3和Cp G5位点及高剂量组DNMT1-CpG1，CpG5，HDAC4-CpG2，SKI-CpG3和CpG5位点发生了甲基化水平的改变。