《表6 镀层粗糙度的ANOVA表》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《铜镀层工艺参数优化的正交实验研究》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

本实验利用高解析光学显微镜KEYENCE（VH-Z500R）对电镀后的试片进行粗糙度测量，在500倍率下，进行三次测量，分别为整个矩形区域（654 m，498 m）的对角线、水平和垂直中线，然后求平均值，测量值结果如表2所示。同理，对数据利用正交实验设计方法进行处理，计算方差和均方值，以及各工艺参数对粗糙度的贡献百分比，计算出的ANOVA如表6所示。各工艺参数（pH、温度和误差Er）对镀层表面粗糙度的影响贡献百分比（CP）如图6所示。