《表1 N (C2H4OH) 3加入量的Tafel曲线参数及腐蚀实验结果》

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《N(C_2H_4OH)_3对电合成氧化钴/聚苯胺复合膜腐蚀性能的影响》

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注:t1为10%酸点滴出锈时间；t2为10%碱点滴出锈时间；η为48h盐雾实验腐蚀率。

图4是聚苯胺/氧化钴复合膜的Tafel极化曲线，Tafel曲线拟合参数及加速腐蚀实验结果见表1。未添加N（C2H4OH）3的聚苯胺/氧化钴复合膜的腐蚀电流密度为4.742×10-6A/cm2，腐蚀电位-0.460V，极化电阻达到1720.2Ω·cm2，10%HCl点滴实验时间380 s，10%Na OH点滴实验时间368 s，48 h中性盐雾实验腐蚀率为3.5%，随着N（C2H4OH）3的加入，聚苯胺/氧化钴复合膜的腐蚀电流密度减小，腐蚀电位向正方向移动，加入2 g/L N（C2H4OH）3时，复合膜的腐蚀电流密度为9.090×10-7A/cm2，腐蚀电位-0.152 V，极化电阻达到43056.3Ω·cm2，10%HCl点滴实验时间496 s，10%Na OH点滴实验时间467s，48 h中性盐雾实验试样未见腐蚀，说明N（C2H4OH）3的加入提高了聚苯胺/氧化钴复合膜的耐蚀性能，原因是N（C2H4OH）3的加入，使电化学合成的氧化钴/聚苯胺复合膜表面由不规则、不致密的片状形貌转变为规则、均匀、致密的片状形貌，从而提高了复合膜的耐蚀性。当加入N（C2H4OH）3的量超过4 g/L后，复合膜的耐蚀性反而降低，这是由于电化学合成的氧化钴/聚苯胺复合膜表面层裂纹增大造成的。