《表1 由Tafel曲线和EIS谱图拟合所得的腐蚀参数》

《表1 由Tafel曲线和EIS谱图拟合所得的腐蚀参数》   提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
本系列图表出处文件名:随高清版一同展现
《添加剂对电化学合成聚苯胺-氧化钴复合膜的影响》


  1. 获取 高清版本忘记账户?点击这里登录
  1. 下载图表忘记账户?点击这里登录

采用电化学工作站自带软件对图3所示PANI–CoO复合膜在3.5%NaCl溶液中测得的Tafel极化曲线和电化学阻抗谱图进行拟合,得到的电化学腐蚀参数见表1。电解液中加入添加剂后,所得PANI–CoO复合膜的腐蚀电流密度(jcorr)均降低,腐蚀电位(φcorr)正移,EIS谱图出现容抗特性,其中采用0.3 g/L硫脲时,所得复合膜的腐蚀电流密度最低,腐蚀电位最正,极化电阻Rp最大,容抗特性最明显,说明其耐蚀性最好。这可能是因为加入硫脲后,所得PANI–CoO复合膜结构最均匀、致密。