《表2 Nb/Al-Al Ox/Nb三层结构生长参数Tab.2 Growth parameters of the Nb/Al-Al Ox/Nb structure》
第一步,三层膜的制备。在SiO2/Si基片上磁控溅射Nb/Al-Al Ox/Nb三层结构,生长条件如表2所示。
图表编号 | XD0016301000 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.10.24 |
作者 | 王海萍、曹春海、刘奥谱、徐祖雨、孙国柱、陈健、许伟伟、吴培亨 |
绘制单位 | 南京大学超导电子研究所、南京大学超导电子研究所、南京大学超导电子研究所、南京大学超导电子研究所、南京大学超导电子研究所、南京大学超导电子研究所、南京大学超导电子研究所、南京大学超导电子研究所 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |
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