《表1 4个自贸区3种专利的处理效应》

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《自由贸易试验区的创新质量效应研究》

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资料来源:作者计算整理。注:“*”表示该项专利的处理效应通过了稳健性检验，因而自贸区对该项专利数量影响的分析结果是可信的。

图4和图5分别是4个自贸区实用新型和外观设计专利数量真实值和合成值的对比。其中4个自贸区实用新型专利的处理效应都为正，而外观设计专利的处理效应都为负，说明自贸区的建立促进了实用新型专利数量的增加，但是降低了外观设计专利的数量。4个自贸区3种专利的处理效应如表1所示。