《表1 脉冲平均电流密度实验数据Tab.1 Experimental data of impulsing average current density》
工艺条件为:镀液温度55oC、p H为1.5、脉冲频率f=1000 Hz、脉冲占空比r+=40%(Ton=0.4ms、Toff=0.6 ms)、r-=10%(Ton=0.1 ms、Toff=0.9ms)、T+=100 ms、T-=10 ms.反向脉冲电流密度为正向的1/10.表1是脉冲平均电流密度实验数据,图1是不同脉冲平均电流密度下纳米晶体镍的XRD谱图.
图表编号 | XD0015002300 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.02.28 |
作者 | 张亚莉、张鸣显、郭腾达、赵彦杰、于升学 |
绘制单位 | 燕山大学环境与化学工程学院、燕山大学环境与化学工程学院、燕山大学环境与化学工程学院、燕山大学环境与化学工程学院、燕山大学环境与化学工程学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |
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