《表1 化学机械抛光技术分解表》

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《化学机械抛光方法专利技术综述》


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硅片成品的一致性是半导体产品的质量保证,而磨具在使用过程中会不断钝化,使其每一时刻的打磨能力都不同,修整使磨具的表面均一、稳定,总是保持在最佳的工作状态,见表1。