《表2 核磁法测得不同配位环境的铝/硅原子摩尔比例》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《后处理法制备多级孔Y型分子筛及其加氢裂化性能研究》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

由图2（a）可以看出，化学位移为-112～-89 ppm范围内的5个信号峰依次归属为Si4Si（Si O2）、Si（0Al，4Si）、Si（1Al，3Si）、Si（2Al，2Si）、Si（3Al，1Si）的分子筛骨架单元结构[9-10]。经高斯分峰拟合后，所处不同化学环境硅原子所占相对比例及骨架硅铝摩尔比如表2所示。与脱铝前USY分子筛相比，试样DAY-1在化学位移为-112 ppm（Si O2）处的信号峰消失，说明非骨架硅在后处理制备过程中被完全脱除。DAY-2和DAY-3的谱图上均出现无定型SiO2信号峰且其所占比例略有增加，同时Si（1Si，3Al）信号峰消失，结合X射线衍射结果分析，这与柠檬酸骨架脱铝能力强导致部分骨架键的断裂有关。