《表4 二维掩模，物镜-工艺参数优化结果》

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《工件台振动低敏感光刻系统协同优化方法》

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图6所示为两种优化方法针对二维掩模图形的优化结果对比图。表4列出了对应的物镜-工艺参数优化结果。对于理想系统，两种方法的CD误差分别为0.01 nm和0.03 nm。此时，二者的图形保真度都很高。但是对于MSD=10 nm情形，两种方法的CD误差分别为-11.73 nm和-8.33 nm。该情形下，LSHO的CD误差比MPLCO结果降低了29.0%。