《表2 不同凸轨条件下线性光学参数变化》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《高精度环形谱仪等时性模式的闭轨校正模拟》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

在闭轨校正模拟过程中，初次校正效果不佳。选取校正前后闭轨均较大的一组随机数（seed=109）进行分析，发现剩余轨道理论计算值和模拟值相差较大，结果如图8所示（图中计算值表示理论计算的校正后剩余轨道）。分析发现，在加误差条件下，响应矩阵模拟计算值与理论计算值有一定的差别，其中水平方向尤为明显，其主要原因是线性光学发生了变化。同时由于水平方向β函数较大，该差别影响也相对较大。为了分析造成线性光学变化的原因，分别在单个二极铁和单个四极铁处造水平方向的局部凸轨，并观察工作点等参数的变化。首先如图9～10所示，使用3-bump凸轨法分别在二极铁和四极铁处形成10 mm的局部凸轨；然后如图11所示，使用4-bump凸轨法使二极铁内的局部凸轨平行于参考轨道。三种情况下工作点和γt的变化如表2所列，模拟结果表明影响光学的主要是二极铁内较大的闭轨畸变。当二极铁内闭轨有一定角度时，影响更为明显，其主要原因是二极铁相对参考轨道的边缘角产生了一定的偏差，边缘聚散焦效果发生变化。