《表1 腔体内层气压固定时，不同外层气压对镀膜均匀性的影响》

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《管式PECVD设备多晶硅镀膜均匀性的改善研究》

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由表1可知，当内层气压为固定的1700mTorr、外层气压分别为1500～1800 mTorr时，外层气压越低，片间均匀性的数值越小，表明其均匀性越好。而片内均匀性的数值越小，表明其均匀性有改善的趋势。