《表1 不同压力下处理TM的发射波长和荧光强度》

《表1 不同压力下处理TM的发射波长和荧光强度》   提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
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注:与对照组比较,小写字母不同表示差异显著(P<0.05)。

由图5、表1可知,在4 0℃不同压力(0.1、100~900 MPa)下处理30 min,TM的最大发射波长的红移和蓝移变化不明显;荧光强度呈一定规律性变化。在100~600 MPa范围内,荧光强度随着压力增加逐渐减小,当压力达到600 MPa时,荧光强度最低;700~900 MPa范围内,荧光强度随压力增加而升高。荧光强度的变化主要是在不同压力条件下疏水性氨基酸的暴露或掩蔽程度不同造成的。由此可见,随处理压力的变化,TM氨基酸微环境(三级结构)发生变化,导致空间构象的变化。