《表2 有损检测的试验条件及其测量的参量Tab.2 Experimental conditions and measured parameters of the destructive test》
对比两种方法对应的产品合格率可知,根据器件内部的低频噪声能够提高短沟道MOS器件可靠性筛选的精度。这是因为使用有损检测法对器件进行可靠性筛选时,不会考虑其对待测器件自身造成的损坏,因此采用有损检测法筛选出的Ⅰ级器件优质率将会偏高于Ⅰ级器件实际可靠率,而利用低频噪声进行的无损检测法评估器件的可靠性等级时,并不对器件自身造成损坏,因此其筛选结果更接近于器件可靠性的真实等级,这与通过表3得出的I级器件优质率小于有损检测筛选的结果相吻合。同时由于Ⅰ级器件优质率下降,使用低频噪声筛选出的Ⅱ级合格率与Ⅲ级器件的淘汰率将会升高。后期会进一步将该方法应用到其他种类半导体器件的可靠性研究,以验证其是否具有普遍适用性。
图表编号 | XD001092500 严禁用于非法目的 |
---|---|
绘制时间 | 2018.01.03 |
作者 | 樊欣欣、杨连营、陈秀国 |
绘制单位 | 国网铜陵供电公司、国网铜陵供电公司、国网铜陵供电公司 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |