《表6 反渗透膜清洗剂：UF-RO工艺回用处理半导体废水》

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《UF-RO工艺回用处理半导体废水》

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反渗透膜运行一定时间后，污染物会在膜表面沉积，需要定期进行化学清洗以完全恢复膜性能。本系统设计清洗周期为3个月，清洗包括循环、浸泡、冲洗3个过程，将清洗剂引入反渗透膜组，按每支膜11.4 L/min的流量循环5～15min，再将单支膜流量调至22.8 L/min循环5～15min，然后再将单支膜流量调至35 L/min循环30～60 min，随后进入浸泡阶段，1～2 h后进行冲洗，直至浓水电导率与进水电导率相同。反渗透膜采用先酸洗后碱洗的步骤进行，酸洗和碱洗均经过上述过程，酸洗剂可选用柠檬酸或HCl，碱洗剂选用NaOH。清洗剂选择见表6。