《表2 主要设备:UF-RO工艺回用处理半导体废水》
具体的规格参数和附属设备见表2。
图表编号 | XD00105409200 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.10.28 |
作者 | 王春冬、李正华、应晓芳 |
绘制单位 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司、中芯国际集成电路制造(上海)有限公司、中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |
具体的规格参数和附属设备见表2。
图表编号 | XD00105409200 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.10.28 |
作者 | 王春冬、李正华、应晓芳 |
绘制单位 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司、中芯国际集成电路制造(上海)有限公司、中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |