《表2 磨粒大小对原子去除个数的影响Table 2The effect of the abrasive size on the number of atoms removed》

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《立方碳化硅CMP过程中机械作用分子动力学仿真》


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由表2显示的原子去除数可知，在刻划深度相同的情况下，去除原子数与磨粒半径并非线性关系，磨粒大小的改变对材料去除影响非常有限.说明磨粒半径增大后虽然沟壑会有所增宽，但未必会使脱离表面的原子数变多，有可能使原子向两侧压紧.

图表编号XD0010526700    严禁用于非法目的
绘制时间2018.06.01
作者翟文杰、杨德重
绘制单位哈尔滨工业大学机电工程学院、哈尔滨工业大学机电工程学院
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