《表3 SLM成形及轧制态试样的电化学参数Table 3 Electrochemical parameters applied in SLMed and rolled samples》

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《激光选区熔化成形TC4合金腐蚀行为》

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Note:Er-corrosion voltage；Ir-corrosion current；Ep-passivation voltage；Ip-passivation current；EB-break voltage

图5为SLM成形态和传统轧制态TC4合金的电化学极化曲线，表3为其拟合出的电化学参数。由图5可以看出，两种成形方式下的试样极化曲线阳极区均符合金属钝化的阳极极化曲线特征，说明SLM成形态TC4合金和传统轧制态在电化学耐蚀过程中都产生了钝化现象。由表3可以看出，3组试样的自耐蚀电压Er几乎一致，XOZ面的自腐蚀电流密度Ir为7.69×10-5 A/cm2，要比XOY面的（7.67×10-6 A/cm2）高出一个数量级，比传统轧制态的（4.78×10-7A/cm2）高出两个数量级；因此在自腐蚀阶段中，轧制态TC4的耐蚀性能要优于SLM成形态TC4；SLM成形XOY面的耐蚀性能要优于SLM成形XOZ面。在钝化阶段，轧制态和SLM成形XOZ面上的钝化电流密度Ip要比SLM成形XOY面低一个数量级；因此在钝化阶段，轧制态TC4的耐蚀性能要优于SLM成形态TC4；SLM成形XOZ面的耐蚀性能要优于XOY面的耐蚀性能。在击穿阶段，击穿电压EB代表了钝化膜的稳定性，击穿电压越高说明钝化膜越稳定。由表3可知，SLM成形态和传统轧制态的击穿电压在同一个数量级，但SLM成形态略高于传统轧制态，其中SLM成形态XOZ面的钝化膜最稳定。综合上述三个方面可知，传统轧制态的耐蚀性能要优于SLM成形态，SLM成形态XOZ面上的耐蚀性能要优于XOY面。