《表2 实验中所采用的SLM工艺参数Table 2 SLM processing parameters applied in the experiment》
实验所用的SLM设备是由本课题组自主研发的LSNF-I型设备[19-20],该设备配有IPG-YLR系列连续式200W光纤激光器,波长为1.07μm,光斑直径为100μm,成形时采用单缸下降来保证粉末的连续供给,运用自主研发的软件完成三维实体的数字切片、参数设置以及扫描路径设置。为防止成形过程因氧化而造成污染,成形过程是在高纯氩气的保护下进行,氧含量严格控制在50mg/m3以下[16]。实验中使用的粉末原料为气体雾化法制备的球形TC4粉末(d50=27μm),其化学成分、形貌和粒径分布分别见表1与图1。优化后成形工艺参数如表2所示,本实验成形了10mm×10mm×10mm的TC4试样。
图表编号 | XD0010492300 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.08.20 |
作者 | 杨慧慧、杨晶晶、喻寒琛、王泽敏、曾晓雁 |
绘制单位 | 华中科技大学武汉光电国家实验室、华中科技大学武汉光电国家实验室、华中科技大学武汉光电国家实验室、华中科技大学武汉光电国家实验室、华中科技大学武汉光电国家实验室 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |