《表1 BN膜的厚度及面密度》

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《羟基化处理对氮化硼膜耐原子氧性能的影响》

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图4对比了两种氮化硼膜的截面形貌，hBN/NFC膜（图4 （a）） 中部分hBN晶片未充分剥离，表现为彼此黏结状态，改性氮化硼膜（图4 （b）） 中hBN-OH晶片剥离得更充分。化学改性处理后，氮化硼表面接枝了羟基结构，与纤维素纳米纤维表面丰富的羧基和羟基官能团间可产生氢键作用[18]。一维的NFC通过与二维的hBN-OH晶片进行接触、缠绕从而达到剥离晶片的效果，在片层间起到黏结作用。因此氮化硼的羟基化处理不仅增大了hBN-OH晶片在混合分散液中的剥离程度，还有助于形成稳定的悬浮液，在层层自组装过程中得到厚度方向BN和NFC分布均匀的薄膜。