《表2 关键研发者知识扩散的负二项回归结果》
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《关系强度和结构洞对关键研发者知识扩散的影响:成长阶段的调节效应》
为了验证实证结果的稳健性,一方面,本研究分别随机抽取样本观测值的50%和20%进行回归分析,发现自变量和交互项的回归系数与表2一致,显著性水平与表2基本相同,说明回归结果稳健可靠,且排除了网络自相关的干扰[21]。另一方面,按照3年固定、不重叠时间窗口的划分方法[21],重新拆分样本数据。以某关键研发者为例,其专利申请日的时间跨度为2002年至2008年,按照该方法,其时间窗口包括2002年至2004年、2005年至2007年、2008年。负二项回归结果表明,自变量和交互项的回归系数和显著性水平与表2基本一致,说明实证结果稳定、可信。因篇幅限制,稳健性检验的结果不再展示。
图表编号 | XD00102286900 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.07.20 |
作者 | 王巍、孙笑明、崔文田、李程 |
绘制单位 | 西安交通大学管理学院、西安建筑科技大学管理学院、西安交通大学管理学院、西安建筑科技大学管理学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |