《表2 钨涂层基本性能对比》

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《钨涂层的几种沉积制备技术研究进展》

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VPS技术由于有气氛保护，其获得的涂层性能要优于APS技术，表2是2种制备工艺所得涂层的性能对比[29，30]，可以看出随着孔隙率和氧含量的降低，钨涂层的热导率提高。这也在Yahiro[7]的研究中得到证实，如图1。也因此，相对于APS/W涂层，VPS/W涂层具有优异的抗热震性能。此外，人们也尝试了其他的热喷涂工艺，如Kobayashi等[31]利用燃气隧道式等离子喷涂在不锈钢基体上得到了低氧含量的钨薄膜；Ctibor等[32]也通过水稳等离子体喷涂在不锈钢基体上沉积出耐磨的WC-Co涂层。由于等离子喷涂技术简单成熟，掺杂速率较高，不受基体材料的限制，膜层较厚，且可对涂层进行定点修复[3 3]，目前被公认为制备聚变堆第一壁材料的首选技术。但在喷涂过程中，由于涂层表面的冷却差异性，容易产生孔洞和裂纹，从而降低其热导率和抗辐照性能，因此，如何利用等离子喷涂技术获得致密的钨涂层也是未来研究的难点。