《表1 1#靶材的主要成分》
磁控溅射靶材是决定薄膜质量的重要因素。换句话说,要想生长高质量薄膜,一个好的靶材是必不可少的。本文选用了两种ZnO靶材进行对比。靶材制备过程为:使用平均粒径分别为500和1 500 nm的两种ZnO粉体原料,通过机械混合法分别与Al2O3等材料混合,制备得到Al2O3质量分数为2%的混合粉末,使用40 MPa单向压力成型结合150 MPa冷等静压制备出靶材生坯,将生坯在1 300℃下焙烧5 h得到致密度达到99%的两种靶材成品[12]。将两种原料得到的靶材分别标记为1#和2#。其中,1#靶材的主要成分如表1所示。
图表编号 | XD00101532400 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.12.15 |
作者 | 陈熙、段力、翁昊天、付学成、杨志、张亚非、刘千慧、陈益钢、高明、张虎 |
绘制单位 | 上海交通大学电子信息与电气工程学院微纳电子学系先进电子材料与器件平台、上海交通大学电子信息与电气工程学院微纳电子学系先进电子材料与器件平台、上海交通大学电子信息与电气工程学院微纳电子学系先进电子材料与器件平台、上海交通大学电子信息与电气工程学院微纳电子学系先进电子材料与器件平台、上海交通大学电子信息与电气工程学院微纳电子学系先进电子材料与器件平台、上海交通大学电子信息与电气工程学院微纳电子学系先进电子材料与器件平台、上海大学材料科学与工程学院电子信息材料系、上海大学材料科学与工程学院电子信息材料系、北京航 |
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