《表1 AlCrTaTiZr高熵合金靶材成分》

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《不同氮气流量AlCrTaTiZr高熵合金氮化物薄膜扩散阻挡性能研究》

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本试验采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀膜系统（Teer公司生产的UDP 650/4型高真空多功能薄膜沉积设备），制备AlCrTaTiZr高熵合金及其氮化物薄膜。AlCrTaTiZr高熵合金靶材是使用接近等摩尔比的Al、Cr、Ta、Ti、Zr金属粉末通过热压的方法制备而成，靶材尺寸为345 mm×145 mm×10 mm。靶材成分如表1所示。