《平面晶体管》
作者 | 上海市科学技术编译馆编译 编者 |
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出版 | 上海市科学技术编译馆 |
参考页数 | 84 |
出版时间 | 1965(求助前请核对) 目录预览 |
ISBN号 | 15·327 — 求助条款 |
PDF编号 | 83979878(仅供预览,未存储实际文件) |
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1.硅平面晶体管及其应用 伴野正美等1
2.硅平面晶体管的设计和工艺 J.C.Henderson等7
3.扩散PNP平面晶体管制造工艺 G.Bradshaw等12
4.二氧化硅薄膜的应用及其形成法 田中利雄16
5.平面扩散 布施升23
6.光刻 安福真民31
7.用表面活性剂解决光致抗蚀剂的粘附不良问题37
8.电子学显微照相 T.C.Hellmers等38
9.微电子学元件用的显微照片阵列 J.J.Murray等43
10.在半导体器件生产中用复眼透镜技术制造掩模 W.E.Rudge等45
11.电解研磨 传田精一50
12.引线的热压连接 手岛宽郎54
13.再氧化期间平面结的退化 F.Barson等58
14.在硅中硼的扩散 E.L.William62
15.氧化层对磷向硅中扩散的影响 R.B.Allen等66
16.一种实用的高频等效线路 J.W.Baker70
17.高频晶体管的电学性质 H.G.Bassett等75
18.半导体器件的制造方法 日本专利81
1965《平面晶体管》由于是年代较久的资料都绝版了,几乎不可能购买到实物。如果大家为了学习确实需要,可向博主求助其电子版PDF文件(由上海市科学技术编译馆编译 1965 上海市科学技术编译馆 出版的版本) 。对合法合规的求助,我会当即受理并将下载地址发送给你。
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- 1980 北京:国防工业出版社
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